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Huttinger 等離子體射頻電源TruPlasma Match1000此類高頻電源防患于未然：TruPlasma RF 3000 系列因堅固結構與效率而出眾。因此，其最佳適用于穩定且可再現的等離子體工藝，例如應用于純平顯示屏、太陽能電池或半導體制造。這些電源安裝在全球數以千計的應用中，以確保生產效率工藝結果。
TruPlasmaDC4010 (G2)脈沖等離子體電源TruPlasma DC 4000 (G2) 系列專為困難材料的直流反應濺射而開發。以脈沖式直流電工作的該款發生器經受住尤為嚴苛的 PVD （物理氣相沉積）和 PECVD （等離子體增強化學氣相沉積）工藝的考驗，這些工藝對涂層質量與生產效率均有*要求。緊湊型直流電源可在脈沖與偏壓模式下使用——亦即兩種設備集于同一外殼！
TruPlasma Highpulse 4002直流等離子體電源 TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發生器可作為直流濺射電源的替代方案，無需改動即可用于現有磁控系統。其提供尤為抗腐蝕且耐磨損的硬質鍍膜，因此是高功率脈沖磁控濺射應用的首要之選。
TruPlasma MF Serie7000中頻等離子體電源通過 TruPlasma MF 7000 (G2) 系列可以隨時掌控工藝流程：此款電源的電弧管理和點火特性具優勢，是用于大面積鍍膜（Large Area Coating）以及雙磁控濺射中高要求反應工藝流程的理想供電系統。與此同時，超過 90 % 的頂尖能量轉化率和極為高效的冷卻水管理系統確保*的運行經濟性。
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